武汉光电工业技术研究院是2012年10月由武汉市人民政府和华中科技大学共建的科技供给、协同创新和产业服务平台，其中武汉市人民政府投入500亩土地和2亿元人民币。目前已获得国家级科技企业孵化器、国家专业化众创空间、国家级众创空间三项国家级认定。2019年1月9日，“以光电工研院为载体促进科技成果转化”被纳入湖北自贸区制度创新成果清单，在全省推广。
光研院坚持体制机制创新和高端产业孵化，在2013年推动了显微光学切片断层成像系统（MOST）知识产权组以1000万元价格挂牌交易，创下科技科技成果转让标底国内最大、个人及团队分配比例最高的两项记录，成为了部属高校挂牌转化科技成果的首个案例，为《中华人民共和国促进科技成果转化法》修订提供了重要参考，推动了高校知识产权“处置权、审批权、收益权”的下放。在MOST成功转化经验的基础上，又推动了OLED有机发光材料、UVLED芯片、柔性OLED显示用聚酰亚胺基膜、高端椭偏仪等一系列“卡脖子”技术的产业化。
同时，光研院也持续围绕“光、芯、屏、智”等领域开展专业孵化和产业培育，分别围绕国家信息光电子创新中心、武汉集成电路技术及产业服务中心、光电显示国家专业化众创空间、脑连接图谱产业协同创新共同体等国家级平台，培育发展自力更生、自主研发、自主创新的光电子产业新集群。
截至目前，培育企业已超160家，其中，瞪羚企业19家，高新技术企业39家，科技“小巨人”企业20家，武汉上市后备企业3家，3551人才企业34家，湖北省双创战略团队7个，2家获得湖北省专利金奖，2家荣获日内瓦发明金奖，培育企业投后总估值超过60亿元。
光电创新园位于武汉东湖新技术开发区主干道未来一路、科技四路之交处，距高新二路和高新大道分别为900米和1800米，距离华中科技大学21公里，约为30分钟车程，上福银高速和武鄂高速只需20分钟车程，因此交通十分便利。园区总用地面积100亩，分为两期开发。一期用地面积49亩，建筑面积约44823.99平方米，容积率为1.5，分为科技孵化区和产业加速区。由研发办公大楼、光显示研发生产大楼、生产平台、生活配套设施等构成。形成以研发主楼为中心双向延伸的形态与底层集合平台叠合，自然形成的多样化地景空间，由内向外，由上而下，人与周边配套服务的高效可达性，人与人之间的高频互动性为入孵企业提供了集休闲、学习、工作于一体的优良众创氛围。
